內(nèi)蒙古純水設備溫馨提示:
超純水處理設備，以水處理預處理、反滲透技術、EDI技術、超純化處理和后級處理等新工藝為核心技術。一般用于太陽能光伏、電子半導體、線路板電路板、高科技精細產(chǎn)品等行業(yè)。
它的產(chǎn)水水質有如下要求：將水中的電解質幾乎去除(電阻率>15MΩ.cm)、水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度。超純水設備是將電滲析膜分離技術與離子交換技術有機結合起來的一種新型水過濾技術，通過電解技術將水中的陰離子、陽離子各自交換，從而得出超純水。
超純水設備原理：
EDI裝置將離子交換樹脂充夾在陰/陽離子交換膜之間形成EDI單元。
超純水設備有哪些特點？
1.全套配置齊全，一體化結構，占地面積少，安裝使用方便；
2.可連續(xù)生產(chǎn)純水，無需酸堿再生；
3.設備性能好、維護簡單、運行費用低；
4.全自動運行，具有缺水保護和低壓保護等保護裝置；
5.產(chǎn)水，水質達標，濾除重金屬、細菌、懸浮物等，水質滿足飲用純凈水和各種工業(yè)用純水。
技術參數(shù)：
超純水設備工藝流程：
原水箱→前置增壓泵→砂濾器→碳濾器→阻垢劑→高壓泵→反滲透→純水箱→二級高壓泵→二級反滲透→二級純水箱→增壓泵→過濾器→PH調節(jié)劑→EDI超純水箱→超純水增壓泵→拋光混床→微孔膜濾器→用水點
運行要求：
進水壓力： 0.2—0.4Mpa
反滲透RO產(chǎn)水，電導率1-20μs/cm，較大允許電導率≤30μs/cm（NaCl）。
pH值： 7.5—9
溫度： 15℃--35℃
濃水進水壓力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa
產(chǎn)水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa
濃水出水壓力(COUT)： 0.02—0.2MPa
進水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計）(推薦0 5ppm以下）
進水有機物：TOC＜0.5ppm
進水硅：SiO2＜0.5ppm
進水總CO2：＜3ppm
進水顆粒度：＜1μm
出水標準：
1.電阻率>15MΩ.cm
2.超純水水質分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質。
應用范圍：
1. 電子工業(yè)用水：純凈水、蒸餾水、集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗；
2.制藥行業(yè)用水：大輸液、針劑、片劑、生化成品、設備清洗等；
3.工行業(yè)工藝用水：化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等；
4.電力行業(yè)鍋爐補給：火力發(fā)電鍋爐、廠礦中高壓鍋爐動力系統(tǒng)；
5.食品工業(yè)用水：飲用純凈水、飲料、啤酒、白酒、保健品等用水；
6.生活飲用水：桶裝水、礦泉水、小區(qū)直飲水、學校直飲水；
7.其它工藝用水：造紙、電鍍、印染汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、扮裝品、化學品等。
清洗步聚：
1、酸洗
配制2.0%鹽酸溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸，邊加邊攪拌均勻(可啟動清洗泵循環(huán)攪拌)。檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后，啟動清洗泵運行30分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，小的流量可以為EDI正常運行時流量的一半。沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液。并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。
2、消毒
清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水，緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液，配制0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循環(huán)10分鐘，使溶液混合均勻。啟動清洗泵運行50分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，小的流量可以為EDI正常運行時流量的一半。檢查清洗過程管道無泄漏。排掉清洗水箱內(nèi)消毒液。并用RO水沖洗EDI出水至電導率降至100μs/cm以下。
3、堿洗
配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解(可啟動清洗泵循環(huán)攪拌)。啟動清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要沖太。
以上就是小編整理關于內(nèi)蒙古純水設備是什么的學習心得，分享給到您。
【編輯：楊工】
